臭氧发生器行业龙头，核心技术打造企业超强竞争力：公司专门干臭氧产生机理研究、臭氧设备设计与制造、臭氧应用工程方案设计与臭氧系统设施安装、调试、运行及维护，是国内臭氧行业的代表企业，产品以大型臭氧发生器为主，涵盖全系列臭氧发生器及臭氧系统集成设备，现已大范围的应用于市政水处理、工业污水处理、烟气脱硝、精细化工等行业。公司以持续的技术创新作为公司核心竞争力，目前掌握了臭氧系统设备的全套核心技术，研制了单机产量3kg/h、5kg/h、10kg/h、20kg/h、50kg/h、80kg/h、120kg/h大型臭氧发生器。公司自2016-2020年业绩增速较为稳定，营收从1.69亿元增长至4.02亿元，CAGR为24.2%，归母净利润从0.33亿元增长至0.8亿元，CAGR为25.2%。
募投高品质晶体乙醛酸项目，未来业绩可期：公司通过募集资金总额不超过3.6亿元，用于投入公司2.5万吨/年高品质晶体乙醛酸项目（一期）。乙醛酸是一种重要的医药中间体和有机合成中间体，在香料、医药、造纸、油漆、精细化工等领域有广泛应用。我国乙醛酸市场主要为低端乙醛酸产品，目尚没有规模化的高品质乙醛酸工业生产企业，制约下游市场发展。根据新思界产业研究中心报告数据及国林科技募投说明书，目前全球每年约有2.8万吨晶体乙醛酸、3.4万吨高品质乙醛酸水溶液及20万吨普通乙醛酸水溶液的市场需求，其中国内市场约占全球市场总量的50%-60%。随着我们国家经济快速发展以及下游产业对高品质乙醛酸的需求量开始上涨，高品质乙醛酸行业将迎来一个新的发展时期。公司使用“臭氧氧化顺酐法”生产的乙醛酸产品的质量高、纯度高，原料经济易得，几乎无环境污染，能得晶体产品及水溶液，工艺简单、安全、步骤少，容易大规模生产。
半导体清洗稀缺标的，有望实现国产替代：根据清洗介质不同，目前半导体清洗技术可分为湿法清洗和干法清洗，其中湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。湿法清洗根据不同的工艺需求，采用特定的化学药液和去离子水，对晶圆表明上进行无损伤清洗，以去除晶圆制作的完整过程中的颗粒、有机物、金属污染、自然氧化层、牺牲层、抛光残留物等物质，可同时采用超声波、加热、真空等辅助技术方法。根据台湾工研院数据，2020年全球半导体清理洗涤设施市场规模为49亿美元，本土设备商主要有至纯科技和盛美上海，但两家合计市场占有率不到10%。我国高端半导体清理洗涤设施中的核心装置臭氧发生器基本空白，当前市场主要为MKS垄断。依据公司公告，国林科技凭借臭氧领域优势，用于半导体行业的高浓度臭氧发生器和高浓度臭氧水设备技术取得突破，经过测试，臭氧发生器出气浓度可达200-300mg/L，臭氧水浓度可达80-150PPm，并能实现臭氧水不同浓度的精准控制，满足半导体行业应用需求。公司半导体清理洗涤设施有望成为国产替代，为市场稀缺标的。
投资建议：随着乙醛酸项目投产，以及半导体清理洗涤设施有望国产替代，公司业绩将持续增长。我们预计公司2021年-2023年的EPS分别为0.99元、2.05元、3.28元，对应PE为39.6x、19.2x和12x，首次覆盖给予买入-A评级，6个月目标价47.27元。
风险提示：核心技术能否保持持续领先及技术泄密的风险；乙醛酸项目进度没有到达预期；盈利能力没有到达预期；半导体清理洗涤设施推进进度不及预期
（更正说明：2021年11月29日发布的相同标题报告的投资建议表述“我们预计公司2020年-2022年”，年份有误，更改为“我们预计公司2021年-2023年”）